超高真空極低温STMによるSiの格子間原子の拡散に関する研究

K. Kyuno, D. G. Cahill, R.S. Averback, J. Tarus, K. Nordlund

Research output: Contribution to journalArticle

Original languageEnglish
JournalPhysical Review Letters
Volume83
Publication statusPublished - 1999 Apr 1

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超高真空極低温STMによるSiの格子間原子の拡散に関する研究. / Kyuno, K.; Cahill, D. G.; Averback, R.S.; Tarus, J.; Nordlund, K.

In: Physical Review Letters, Vol. 83, 01.04.1999.

Research output: Contribution to journalArticle

Kyuno, K. ; Cahill, D. G. ; Averback, R.S. ; Tarus, J. ; Nordlund, K. / 超高真空極低温STMによるSiの格子間原子の拡散に関する研究. In: Physical Review Letters. 1999 ; Vol. 83.
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TY - JOUR

T1 - 超高真空極低温STMによるSiの格子間原子の拡散に関する研究

AU - Kyuno, K.

AU - Cahill, D. G.

AU - Averback, R.S.

AU - Tarus, J.

AU - Nordlund, K.

PY - 1999/4/1

Y1 - 1999/4/1

M3 - Article

VL - 83

JO - Physical Review Letters

JF - Physical Review Letters

SN - 0031-9007

ER -