A 7-Mask CMOS Process with Selective Oxide Deposition

T.Horiuchi T.Horiuchi, K.Kanba K.Kanba, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article

12 引用 (Scopus)
元の言語English
ページ(範囲)1455-1460
ジャーナルIEEE Transaction on Electron Devices
40
出版物ステータスPublished - 1993 8 1

これを引用

T.Horiuchi, T. H., K.Kanba, K. K., T.Homma, T. H., Y.Murao, Y. M., K.Okumura, K. O., & Homma, T. (1993). A 7-Mask CMOS Process with Selective Oxide Deposition. IEEE Transaction on Electron Devices, 40, 1455-1460.