A 7-Mask CMOS Process with Selective Oxide Deposition

T.Horiuchi T.Horiuchi, K.Kanba K.Kanba, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

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本文言語English
ページ(範囲)1455-1460
ジャーナルIEEE Transaction on Electron Devices
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出版ステータスPublished - 1993 8 1

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