A 7-Mask CMOS Process with Selective Oxide Deposition

Tadahiko Horiuchi, Tetsuya Homma, Yukinobu Murao, Koichiro Okumura

研究成果: Article査読

12 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「A 7-Mask CMOS Process with Selective Oxide Deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science