A 7 Mask CMOS Technology Utilizing Liquid Phase Selective Oxide Deposition

K.Kanba K.Kanba, T.Horiuchi T.Horiuchi, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

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本文言語English
ページ(範囲)637-640
ジャーナルProceedings of IEEE International Electron Devices Meeting
出版ステータスPublished - 1991 12 8

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