A 7 Mask CMOS Technology Utilizing Liquid Phase Selective Oxide Deposition

K.Kanba K.Kanba, T.Horiuchi T.Horiuchi, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article

4 引用 (Scopus)
元の言語English
ページ(範囲)637-640
ジャーナルProceedings of IEEE International Electron Devices Meeting
出版物ステータスPublished - 1991 12 8

これを引用

K.Kanba, K. K., T.Horiuchi, T. H., T.Homma, T. H., Y.Murao, Y. M., K.Okumura, K. O., & Homma, T. (1991). A 7 Mask CMOS Technology Utilizing Liquid Phase Selective Oxide Deposition. Proceedings of IEEE International Electron Devices Meeting, 637-640.