A Fully Planarized Multilevel Interconnection Technology Using Semi-Selective Tetraethoxysilane-Ozone Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure

T.Homma T.Homma, M.Suzuki M.Suzuki, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article

12 引用 (Scopus)
元の言語English
ページ(範囲)3591-3599
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
140
出版物ステータスPublished - 1993 12 1

これを引用