A Fully Planarized Multilevel Interconnection Technology Using Semi-Selective Tetraethoxysilane-Ozone Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure

T.Homma T.Homma, M.Suzuki M.Suzuki, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

12 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)3591-3599
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
140
出版ステータスPublished - 1993 12 1

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