A High Performance Asymmetric LDD MOSFET Using Selective Oxide Deposition

T.Horiuchi T.Horiuchi, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

2 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)88-89
ジャーナル1992 Symposium on VLSI Technology, Technical Digest
出版ステータスPublished - 1992 6 2

引用スタイル