A highly selective photoresist ashing process for silicon nitride films by addition of trifluoromethane

Makoto Saito, Hideo Eto, Nobuaki Makino, Kayoko Omiya, Tetsuya Homma, Takao Nagatomo

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「A highly selective photoresist ashing process for silicon nitride films by addition of trifluoromethane」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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