A New SOG Film Formation Technology Using A Room Temperature Fluoro-Alkoxy-Silane Treatment (FAST)

T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)65-71
ジャーナルProceedings of 9th VLSI Multilevel Interconnection Conference
出版ステータスPublished - 1992 6 9

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