A Newly Developed High-Speed Rotating Disk CVD Equipment for Poly-Si Films

F. Terai, H. Kobayashi, S. Katsui, Y. Sato, T. Nagatomo, T. Homma

研究成果: Article査読

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本文言語English
ページ(範囲)125-130
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics
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出版ステータスPublished - 2005 1月 11

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