A p-channel AlGaAs/GaAs MIS-like heterostructure FET employing two-dimensional hole gas

K. Oe, M. Hirano, K. Arai, F. Yanagawa, K. Tsubaki

    研究成果: Article査読

    1 被引用数 (Scopus)

    抄録

    A p-channel AlGaAs/GaAs heterostructure FET which operates in MIS-transistor like mode has been investigated for implementation in a complementary logic circuit. Maximum values of transconductances of 100 mS/mm at 77 K and 50 mS/mm at 300 K have been achieved in a device with 1 microm gate length. The improvement at 77 K is attributed to an increased mobility of the two-dimensional hole gas which was confirmed by Shubnikov-de Haas oscillations at 4.2 K.

    本文言語English
    ページ(範囲)378-381
    ページ数4
    ジャーナルSurface Science
    174
    1-3
    DOI
    出版ステータスPublished - 1986 8 3

    ASJC Scopus subject areas

    • 凝縮系物理学
    • 表面および界面
    • 表面、皮膜および薄膜
    • 材料化学

    フィンガープリント

    「A p-channel AlGaAs/GaAs MIS-like heterostructure FET employing two-dimensional hole gas」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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