A Room Temperature Chemical Vapor Deposition SiOF Film Formation Technology for the Interlayer in Submicron Multilevel Interconnection

T.Homma T.Homma, R.Yamaguchi R.Yamaguchi, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

86 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)687-692
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
140
出版ステータスPublished - 1993 3月 1

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