本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 2410-2414 |
ジャーナル | Journal of the Electrochemical Society |
巻 | 140 |
出版ステータス | Published - 1993 8月 1 |
A Selective SiO2 Film Formation Technology Using Liquid Phase Deposition for Fully Planarized Multilevel Interconnections
T.Homma T.Homma, T.Katoh T.Katoh, Y.Yamada Y.Yamada, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma
研究成果: Article › 査読
68
被引用数
(Scopus)