A Selective SiO2 Film Formation Technology Using Liquid Phase Deposition for Fully Planarized Multilevel Interconnections

T.Homma T.Homma, T.Katoh T.Katoh, Y.Yamada Y.Yamada, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

66 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)2410-2414
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
140
出版ステータスPublished - 1993 8 1

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