An Asymmetric Side Wall Process for High Performance LDD MOSFET's

T.Horiuchi T.Horiuchi, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, K.Okumura K.Okumura, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)186-190
ジャーナルIEEE Transactions on Electron Devices
41
出版ステータスPublished - 1994 2月 1

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