An SiO2 Film Deposition Technology using Tetraethylorthosilicate (TEOS) and Ozone for Interlayer Metal Dielectrics

A.Kubo A.Kubo, T.Homma T.Homma, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article

12 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)1769-1773
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
143
出版ステータスPublished - 1996 5 1

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