Change of electrical properties of rutile- and anatase-TiO2 films by atomic layer deposited Al2O3

Toshihide Nabatame, Ippei Yamamoto, Tomomi Sawada, Akihiko Ohi, Thang Duy Dao, Tomoji Ohishi, Tadaaki Nagao

研究成果: Conference contribution

フィンガープリント Change of electrical properties of rutile- and anatase-TiO<sub>2</sub> films by atomic layer deposited Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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