Characteristics of SiOF Films Deposited Using Tetrathylorthosilicate (TEOS) and Fluorotriethoxysilane (FTES) at Room Temperature by chemicalVaper Deposition

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本文言語English
ページ(範囲)707-711
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
143
出版ステータスPublished - 1996 2 1

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