Chip-level performance maximization using ASIS (application-specific interconnect structure) wiring design concept for 45 nm CMOS generation

Noriaki Oda, Hironori Imura, Naoyoshi Kawahara, Masayoshi Tagami, Hiroyuki Kunishima, Shuji Sone, Sadayuki Ohnishi, Kenta Yamada, Yumi Kakuhara, Makoto Sekine, Yoshihiro Hayashi, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Chip-level performance maximization using ASIS (application-specific interconnect structure) wiring design concept for 45 nm CMOS generation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds