Cleaning of CHF3 plasma etched SiO2/SiN/Cu via structures

K.Ueno K.Ueno, V.M.Donnelly V.M.Donnelly, Y.Tsuchiya Y.Tsuchiya, K.Ohto K.Ohto, T.Kikkawa T.Kikkawa, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)245-250
ジャーナルProceedings of 1996 VLSI Multilevel Interconnection Conference
出版ステータスPublished - 1996 5月 1

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