本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 2565-2572 |
ジャーナル | Journal of Electrochemical Society |
巻 | 144 |
出版ステータス | Published - 1997 1月 1 |
Cleaning of CHF3 plasma-etched SiO2/SiN/Cu via structures with dilute hydrofluoric acid solutions
K.Ueno K.Ueno, V.M.Donnelly V.M.Donnelly, T.Kikkawa T.Kikkawa, Kazuyoshi Ueno
研究成果: Article › 査読
36
被引用数
(Scopus)