Cleaning of CHF3 plasma-etched SiO2/SiN/Cu via structures with dilute hydrofluoric acid solutions

K.Ueno K.Ueno, V.M.Donnelly V.M.Donnelly, T.Kikkawa T.Kikkawa, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

36 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)2565-2572
ジャーナルJournal of Electrochemical Society
144
出版ステータスPublished - 1997 1月 1

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