Cleaning of CHF3 plasma-etched SiO2/SiN/Cu via structures with dilute hydrofluoric acid solutions

Kazuyoshi Ueno, Vincent M. Donnelly, Takamaro Kikkawa

研究成果: Article査読

36 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Cleaning of CHF<sub>3</sub> plasma-etched SiO<sub>2</sub>/SiN/Cu via structures with dilute hydrofluoric acid solutions」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds