Comparison of flow models for photoresist behavior at contact holes in thermal flow processes

Hideo Eto, Maki Miyazaki, Takehiro Kondoh, Eishi Shiobara, Shinichi Ito, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

2 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Comparison of flow models for photoresist behavior at contact holes in thermal flow processes」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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