Copper and tungsten metallization using MOCVD-TiN barrier layer (Invited)

K.Ueno K.Ueno, Kazuyoshi Ueno

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナルProceedings of Annual Dielectric and CVD Metallization Symposium
出版ステータスPublished - 1995 11月 1

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