Degradation-free Cu/HSQ damascene technology using metal mask patterning and post-CMP cleaning by electrolytic ionized water

H. Aoki, S. Yamasaki, T. Usami, Y. Tsuchiya, N. Ito, T. Onodera, Y. Hayashi, K. Ueno, H. Gomi, N. Aoto

研究成果: Conference article査読

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Degradation-free Cu/HSQ damascene technology using metal mask patterning and post-CMP cleaning by electrolytic ionized water」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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