Degradation of electromigration lifetime by post-annealing for CU/Low-k interconnects

Y. Kakuhara, K. Ueno

研究成果: Conference contribution

1 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ホスト出版物のタイトル2005 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings, 43rd Annual
ページ656-657
ページ数2
出版ステータスPublished - 2005 12 15
外部発表はい
イベント2005 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings, 43rd Annual - San Jose, CA, United States
継続期間: 2005 4 172005 4 21

出版物シリーズ

名前IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings
ISSN(印刷版)1541-7026

Conference

Conference2005 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings, 43rd Annual
国/地域United States
CitySan Jose, CA
Period05/4/1705/4/21

ASJC Scopus subject areas

  • 工学(全般)

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