Depth profiles of the Fermi level at an amorphous-carbon nitride/SiO2/n-type-Si heterojunction interface obtained by Kelvin probe force microscopy

Takahiro Ishizaki, Nagahiro Saito, Riichiro Ohta, Osamu Takai

研究成果: Article査読

1 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Depth profiles of the Fermi level at an amorphous-carbon nitride/SiO<sub>2</sub>/n-type-Si heterojunction interface obtained by Kelvin probe force microscopy」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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