Development of rf/dc plasma systems for nitriding of aluminum alloys

Yoshio SUgita, Tatsuhiko Aizawa

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)47-48
ジャーナルAbstract of ICMCTF-2011
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出版ステータスPublished - 2011 4月 27

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