Effect of high-temperature treatment on optical-absorption bands in amorphous SiO2

N. Dohguchi, S. Munekuni, H. Nishikawa, Y. Ohki, K. Nagasawa

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本文言語English
ページ(範囲)2788-2790
ジャーナルJournal of Applied Physics
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出版ステータスPublished - 1991 9月 1

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