Effects of Argon Gas Flow Rate and Furnace Pressure on Oxygen Concentration in Czochralski-Grown Silicon Crystals

Masahiro Shoji, Naoki Ono, Keisei Abe, Michio Kida, Yasuo Shimizu

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)362-368
ジャーナルJournal of Crystal Growth
186
出版ステータスPublished - 1997 8 28

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