Effects of thermal anneal on the UV photosensitivity for writing of Bragg gratings on Ge-doped silica thin films by a plasma CVD method

Tomomi Hattori, Emi Irisawa, Hiroyuki Nishikawa

研究成果: Paper査読

フィンガープリント

「Effects of thermal anneal on the UV photosensitivity for writing of Bragg gratings on Ge-doped silica thin films by a plasma CVD method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds