Electroforming of Ni mold for imprint lithography using high-aspect-ratio PMMA microstructures fabricated by proton beam writing

Yusuke Tanabe, Hiroyuki Nishikawa, Yoshihiro Seki, Takahiro Satoh, Yasuyuki Ishii, Tomihiro Kamiya, Tohru Watanabe, Atsushi Sekiguchi

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Electroforming of Ni mold for imprint lithography using high-aspect-ratio PMMA microstructures fabricated by proton beam writing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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