Electron-beam-induced deposition using a subnanometer-sized probe of high-energy electrons

K. Mitsuishi, M. Shimojo, M. Han, K. Furuya

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抄録

The electron-beam-induced deposition of high-energy electrons by using a subnanometer-sized probe was discussed. The nanometer-sized dots with a diameter of less than 5 nm were also fabricated. It was observed that the deposition period strongly affected the size of the deposits in the transmission electron microscopy (TEM).

本文言語English
ページ(範囲)2064-2066
ページ数3
ジャーナルApplied Physics Letters
83
10
DOI
出版ステータスPublished - 2003 9 8
外部発表はい

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  • 物理学および天文学(その他)

フィンガープリント

「Electron-beam-induced deposition using a subnanometer-sized probe of high-energy electrons」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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