Evolution of leakage paths in Hf O2 Si O2 stacked gate dielectrics: A stable direct observation by ultrahigh vacuum conducting atomic force microscopy

K. Kyuno, K. Kita, A. Toriumi

研究成果: Article査読

30 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Evolution of leakage paths in Hf O2 Si O2 stacked gate dielectrics: A stable direct observation by ultrahigh vacuum conducting atomic force microscopy」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy