Fabrication of Bi2SiO5 Thin Films for MFIS Structures

M.Yamaguchi M.Yamaguchi, K.Hiraki K.Hiraki, T.Homma T.Homma, T.Nagatomo T.Nagatomo, Y.Masuda Y.Masuda, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)629-632
ジャーナルProceedings of 12th International Symposium on the Application of Ferroelectrics(ISAF)
II
出版ステータスPublished - 2001 3月 1

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