Fabrication of Bi2SiO5 Thin Films for MFIS Structures

M.Yamaguchi M.Yamaguchi, K.Hiraki K.Hiraki, T.Homma T.Homma, T.Nagatomo T.Nagatomo, Y.Masuda Y.Masuda, Tetsuya Homma

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)629-632
ジャーナルProceedings of 12th International Symposium on the Application of Ferroelectrics(ISAF)
II
出版物ステータスPublished - 2001 3 1

これを引用

M.Yamaguchi, M. Y., K.Hiraki, K. H., T.Homma, T. H., T.Nagatomo, T. N., Y.Masuda, Y. M., & Homma, T. (2001). Fabrication of Bi2SiO5 Thin Films for MFIS Structures. Proceedings of 12th International Symposium on the Application of Ferroelectrics(ISAF), II, 629-632.