Fabrication of Electroless CoWP/NiB Barrier Layer on SiO2 for ULSI Devices

T. Osaka, H. Aramak, M. Yoshino, K. Ueno, I. Matsuda, Y. Shacham-Diam

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)H707-H710
ジャーナルJournal of the Electrochemical Society
156
出版ステータスPublished - 2009 9月 1

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