Fabrication of electroless CoWP/NiB diffusion barrier layer on SiO 2 for ULSI Devices

Tetsuya Osaka, Hitoshi Aramaki, Masahiro Yoshino, Kazuyoshi Ueno, Itsuaki Matsuda, Yosi Shacham-Diamand

研究成果: Article査読

21 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Fabrication of electroless CoWP/NiB diffusion barrier layer on SiO <sub>2</sub> for ULSI Devices」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds