Fabrication of Highly Doped MLG Patterns Using Selective CVD and MoCl5Intercalation

Ekkaphop Ketsombun, Tomoki Akimoto, Kazuyoshi Ueno

研究成果

抄録

Doped MLG is expected as an inductor material with high inductance density due to its high kinetic inductance. A practical fabrication process for doped MLG patterns is developed using a selective CVD on Ni catalyst patterns and stable MoCl5 intercalation. The highly doped MLG patterns of stage-2 were realized by CVD-MLG with a G/D ratio of 20 or more, and the sheet-resistance could be reduced.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2021 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN(電子版)9781728176321
DOI
出版ステータスPublished - 2021 7 6
イベント24th Annual IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021 - Virtual, Kyoto, Japan
継続期間: 2021 7 62021 7 9

出版物シリーズ

名前2021 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021

Conference

Conference24th Annual IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2021
国/地域Japan
CityVirtual, Kyoto
Period21/7/621/7/9

ASJC Scopus subject areas

  • ハードウェアとアーキテクチャ
  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 表面、皮膜および薄膜

フィンガープリント

「Fabrication of Highly Doped MLG Patterns Using Selective CVD and MoCl<sub>5</sub>Intercalation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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