| 本文言語 | English |
|---|---|
| ジャーナル | 207th Meeting of the Electrochemical Society |
| 出版ステータス | Published - 2005 5月 1 |
Far- and Mid- Infrared Absorption Study of HfO2/SiO2/Si System
A. Toriumi, K. Tomida, H. Shimizu, K. Kita, K. Kyuno
研究成果: Article › 査読
A. Toriumi, K. Tomida, H. Shimizu, K. Kita, K. Kyuno
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| 本文言語 | English |
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| ジャーナル | 207th Meeting of the Electrochemical Society |
| 出版ステータス | Published - 2005 5月 1 |