Far Infrared Study of Structural Distortion and Transformation of HfO2 by Introducing a Slight Amount Si

K. Tomida, K. Kita, K. Kyuno, A. Toriumi

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)790-791
ジャーナルExtended Abstracts of 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
出版ステータスPublished - 2004 9 1

引用スタイル