Flow Characteristics of SiOF Films in Room Temperature Chemical Vapor Deposition Utilizing Fluorotrialkoxysilane Group and Pure Water as Gas Sources

T.Homma T.Homma, R.Yamaguchi R.Yamaguchi, Y.Murao Y.Murao, Tetsuya Homma

研究成果: Article査読

24 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)3599-3603
ジャーナルJournal of The Electochemical Society
140
出版ステータスPublished - 1993 12 1

引用スタイル