本文言語 | English |
---|---|
ページ(範囲) | 133 |
ジャーナル | Materials Research Society, Spring Meeting Symp. F, Abstracts(F1.3) |
出版ステータス | Published - 1995 4月 18 |
Fluorinated SiO2 Films for Interlayer Dielectrics in Quarter-micron Multilevel Interconnections
研究成果: Article › 査読
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本文言語 | English |
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ページ(範囲) | 133 |
ジャーナル | Materials Research Society, Spring Meeting Symp. F, Abstracts(F1.3) |
出版ステータス | Published - 1995 4月 18 |