Fluorinated SiO2 Films for Interlayer Dielectrics in Quarter-micron Multilevel Interconnections

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)133
ジャーナルMaterials Research Society, Spring Meeting Symp. F, Abstracts(F1.3)
出版ステータスPublished - 1995 4 18

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