| 本文言語 | English |
|---|---|
| ページ（範囲） | 133 |
| ジャーナル | Materials Research Society, Spring Meeting Symp. F, Abstracts（F1.3） |
| 出版ステータス | Published - 1995 4月 18 |
Fluorinated SiO2 Films for Interlayer Dielectrics in Quarter-micron Multilevel Interconnections
研究成果: Article › 査読
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| 本文言語 | English |
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| ページ（範囲） | 133 |
| ジャーナル | Materials Research Society, Spring Meeting Symp. F, Abstracts（F1.3） |
| 出版ステータス | Published - 1995 4月 18 |