Fluorinated SiO2 Films for Interlayer Dielectrics in Quartermicron Multilevel Interconnections

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)239-248
ジャーナルLow-Dielectric Constant Materials - Synthesis and Applications in Microelectronics, Proceedings Volume
381
出版物ステータスPublished - 1995 1 1

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