Formation and distribution of defect clusters near grain boundary of oxides implanted with Xe ions

M. Song, X. Guo, M. Takeguchi, K. Mitsuishi, M. Shimojo, K. Furuya

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナルDefault journal
出版ステータスPublished - 2008 8 1

引用スタイル