GaAs Taper Etching By Mixture Gas Reactive Ion Etching System

Makoto Hirano

    研究成果: Article査読

    本文言語English
    ページ(範囲)L2136-L2138.
    ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics
    30
    出版ステータスPublished - 1991 9月 1

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