Generalized Model of Oxidation Mechanism at HfO2/Si Interface with Post-Deposition Annealing

H. Shimizu, Kentaro Kyuno

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)796-797
ジャーナルExtended Abstracts of 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
出版ステータスPublished - 2004 9 1

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