Growth Mechanism Difference of Sputtered HfO2 on Ge and on Si

K.Kita K.Kita, K.Kyuno K.Kyuno, A.Toriumi A.Toriumi, Kentaro Kyuno

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本文言語English
ジャーナルApplied Physics Letters
85
出版ステータスPublished - 2004 4 1

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