Growth mechanism difference of sputtered HfO2 on Ge and on Si

Koji Kita, Kentaro Kyuno, Akira Toriumi

研究成果査読

88 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Growth mechanism difference of sputtered HfO<sub>2</sub> on Ge and on Si」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy