Hafnium silicate gate dielectrics in GaN metal oxide semiconductor capacitors

Toshihide Nabatame, Erika Maeda, Mari Inoue, Kazuya Yuge, Masafumi Hirose, Koji Shiozaki, Naoki Ikeda, Tomoji Ohishi, Akihiko Ohi

研究成果査読

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フィンガープリント

「Hafnium silicate gate dielectrics in GaN metal oxide semiconductor capacitors」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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