Influence of oxygen transfer in Hf-based high-k dielectrics on flatband voltage shift

Toshihide Nabatame, Masayuki Kimura, Hiroyuki Yamada, Akihiko Ohi, Tomoji Ohishi, Toyohiro Chikyow

研究成果: Article

9 引用 (Scopus)

フィンガープリント Influence of oxygen transfer in Hf-based high-k dielectrics on flatband voltage shift' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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