Influence of post-deposition annealing on characteristics of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors

Masafumi Hirose, Toshihide Nabatame, Kazuya Yuge, Erika Maeda, Akihiko Ohi, Naoki Ikeda, Yoshihiro Irokawa, Hideo Iwai, Hideyuki Yasufuku, Satoshi Kawada, Makoto Takahashi, Kazuhiro Ito, Yasuo Koide, Hajime Kiyono

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Influence of post-deposition annealing on characteristics of Pt/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> MOS capacitors」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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