IR Absorption Study of HfO2 and HfO2/Si Interface Ranging from 200cm-1 to 2000cm-1

K. Tomida, H. Shimizu, K. Kita, K. Kyuno, A. Toriumi

研究成果: Article査読

本文言語English
ジャーナル2004 MRS Spring Meeting
出版ステータスPublished - 2004 4 1

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